K- 400电子氟化液、电子清洗剂、溶媒
K-400电子氟化液的主要成分为氢氟醚（HFE），是新一代对环境影响较低的清洗剂、溶媒解决方案。尤其是其臭氧消耗潜能值（ODP）为零，即对臭氧无破坏作用，其全球暖化趋势系数（GWP）为580，与HFC、PFC相比大幅降低，因此极大减轻了对环境的负担。
K- 400电子氟化液具有优秀的热稳定性和化学稳定性，且拥有适度的溶解性，无闪点，应用安全，这些特点使其应用非常广泛。
K-400可以替代HFC，PFC、杜邦公司Vertrel、3M公司Novec、旭硝子公司Asahiklin AE 3000溶剂产品。
主要特点
低表面张力、低粘度、高密度、渗透性良好、优秀的材料兼容性、对大部分树脂、金属材料无影响，可以蒸馏再生、低毒性，不燃性，无腐蚀性，应用安全度高
应用领域
精密电气、电子清洗液：金属、合金、复合材料、塑料等材质的精密电气、电子元器件的清洗；精密清洗电子元器件的颗粒杂质
溶剂、稀释剂：氟油、氟树脂、氟涂层剂、硅油等
干燥剂：干燥、去除水分、不留水痕，去除乙醇等碳氢清洗剂
用作精密清洗剂：
K-400的低表面张力、低粘度、良好的渗透性、适中的溶解性使其与超声波结合使用可以发挥更佳的清洗效果。适用于单一溶剂清洗、与碳氢清洗剂共溶剂清洗、水分去除、干燥多种方式。
纯溶剂清洗的用途举例：CCD、CMOS传感器等电子设备的除尘、清除表面颗粒；CCD、CMOS模块中IR玻璃、镜筒部位的清洗、干燥；半导体生产装置零件、腔体的清洗；轻质与中质油污的清洗；氟油、润滑油的清洗；颗粒的擦除清洗；印刷零件压膜后的清洗等，纯溶剂清洗的示意如下。
与碳氢清洗剂共溶剂清洗方式应用举例：液晶模块、面板的清洗；硬盘的悬架、托杆的脱脂清洗与干燥；精密加工零件的硅油清洗与干燥；引擎垫圈按压后清洗；气缸真空管的树脂清洗；航空机零件的切削油去除清洗等
水分去除、干燥方式用途举例：去除、干燥相机等镜片的水分；去除、干燥CCD、CMOS传感器封装的水分；去除、干燥硬盘精密零件的水分
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